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CIF科研型等離子清洗機

簡要描述:CIF推出的新一代科研型等離子清洗設備,通過協同優化的結構設計與腔體空間,顯著拓展了樣品處理容量與應用范圍。該設備性能可靠,兼顧了操作的簡便性與維護的便捷性,滿足高標準科研需求。

  • 產品型號:CPC-F/Plus CPC-E/Plus
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2026-05-11
  • 訪  問  量:3910

詳細介紹

品牌CIF產地類別國產
應用領域環保,生物產業,地礦,能源

CIF推出的新一代科研型等離子清洗設備,通過協同優化的結構設計與腔體空間,顯著拓展了樣品處理容量與應用范圍。該設備性能可靠,兼顧了操作的簡便性與維護的便捷性,滿足高標準科研需求。  

等離子清洗機原理

等離子體是物質的第四態,本質上是離子化的氣體。它由自由移動的電子、正離子及未電離的中性粒子(原子或分子)混合組成,宏觀上呈電中性,內部富含高活性的自由基、激發態粒子與光子,能量很高。

等離子清洗機正是利用此特性工作:通過射頻電源激發工藝氣體,使其電離產生低溫等離子體。這些高活性粒子隨后轟擊材料表面,通過物理濺射與化學反應,有效清除污染物或改變表面性質,從而實現清潔、活化、改性等目的。

應用領域

納米材料、半導體、微電子、PCB線路板、LED、微流控、光電太陽能、人造血管、人造支架、石墨烯電池。

產品特點

u 智能交互界面:配備7寸彩色觸摸屏,支持中英文雙語操作,可實時監測與自動調節工藝參數,內置20組配方程序,工藝數據可存儲、可追溯。

u 可靠控制系統:采用PLC全程控制,支持手動與自動兩種工作模式,確保清洗過程穩定可靠。

u 雙向智能真空控制:統可通過調節氣體流量或腔體壓力兩種模式精準控制真空壓力,工藝調控更靈活、更智能,滿足多樣化的精密處理需求。

u 精準氣體管理:搭載氣體浮子流量計或質量流量計,支持氧氣、氬氣、氮氣、氫氣及混合氣體等多種氣源,控制精度高。

u 潔凈防污設計:具備氣體返填吹掃功能,配備HEPA高效過濾器,有效防止二次污染。

u 優質材質結構:真空艙體可選316不銹鋼或石英材質,全真空管路系統均為316不銹鋼,耐腐蝕、無污染。

u 人性化操作設計:操作面板采用60°傾角設計,符合人體工學,界面友好、操作便捷;上控制下艙體結構緊湊,節省空間;前面板內凹設計,保護流量計與艙門不易受損。

u 高效穩定工藝:處理過程快速、均勻,重復性好,無污染;樣品處理溫度低,避免熱損傷與熱氧化。

u 周全安全保護:艙門開啟即自動斷電,并配備可控泄壓等多重防護機制,保障操作與樣品安全。



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